流动的痕迹 —国际版画艺术展
学术主持：徐冰 策展人：托马斯·吴，杨宏伟，刘欣怡
主办：中央美术学院 承办：中央美术学院美术馆 协办：哥伦比亚大学勒罗伊·尼曼版画中心
展览时间：10月20日– 11月13日 展览地点：中央美术学院美术馆2层B展厅
“流动的痕迹——国际版画艺术展”将于2021年10月20日至11月13日在美术馆二层B展厅举办。该展览由中国中央美术学院主办，中央美术学院美术馆承办，美国哥伦比亚大学勒罗伊•尼曼版画中心协办。哥伦比亚大学教授托马斯•吴、中央美术学院教授杨宏伟、艺术家刘欣怡共同担任策展人。将展出来自世界各国逾百件艺术作品，参展艺术家（按姓氏首字母排序）包括塞西莉•布朗、方力钧、艾伦•加拉格尔、古元、威廉•肯特里奇、李桦、奇奇•史密斯、苏新平、萨拉•施、里克力•提拉瓦尼、卡拉•沃克、徐冰等。
当我们谈及版画，似乎早已习惯于将版画假定成木版、石版、铜版、丝网版等技法的产物。此次展览，艺术家们将以怀疑者的立场去重新审视、思考与探究版画：
“ 为什么做版画？” “ 版画于我的意义是什么？”
本次展览是一场针对所有参展艺术家们的发问，所展出的每件作品都是艺术家们对这些发问的直接或间接的作答。有的艺术家从“版”的概念出发，有的从“板”的构造出发，有的从“印”的动作出发，有的从“刻”的姿态出发，有的从“复数”的语言出发，有的从材料的特性出发。有的在叠加，有的在简化。艺术家们多样的国界、背景、年代势必会为提问带来不同质地的回答，这些答案既将版画掷入一个具有社会性意义的语境，又将关于版画的讨论推恿至：
“ 版画的未来会是什么？”
